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界達電位粒徑分析儀ELSZneo
【一機全能✨】粒徑｜Zeta｜固體表面電位 ⭕液相到固相一站量測⭕
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界達電位粒徑分析儀ELSZ-2000ZS
稀溶液到濃溶液，奈米粒徑到固體表面電位評價
搭載業界最高功率半導體雷射及高感度APD -
多檢體奈米粒徑分析儀nanoSAQLA
【零汙染⚡一鍵5連測】奈米粒徑量測 ⭕最多可擴充至50檢體・高效精準⭕
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多檢體奈米粒徑量測自動進樣系統nanoSAQLA+AS50
最多連續量測50個檢體奈米粒徑量測
實現小容量、高速、無汙染自動 -
靜態光散射光度計SLS-6500HL
動態光散射法分析粒徑、量測粒徑分佈。靜態光散射法量測絕對分子量、分子旋轉半徑與第二維里係數
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高分子相結構分析系統PP-1000
使用小角光散射法(SALS)，即時連續量測高分子或薄膜的構造變化
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多通道分光光譜儀MCPD-9800
高速,高再現性,高動態範圍的三高完美演出。從紫外到紅外線領域的多功能多通道分光光譜檢測器
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多通道分光光譜儀MCPD-6800
用途最多！ 通用性最高的標準機型光譜儀。
最短16msec、可對應生產線上高速量測 -
顯微分光膜厚量測儀OPTM series
【顛覆傳統⚡】超高速1秒測量 ⭕媲美橢圓偏光儀的1nm極薄膜量測・3μm微小聚焦・精度速度的完美演繹⭕
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SMART手持式光學膜厚計
【輕巧便攜✨】零經驗也能用！SMART智慧膜厚計 ⭕高精度・非破壞・隨身攜帶⭕
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橢圓偏光量測儀FE-5000S
使用光譜橢圓法分析方法的薄膜厚度測量儀。
優恵的價格提供薄膜的全方位量測。 -
膜厚量測儀FE-300
薄膜到厚膜的量測範圍、UV~NIR光譜分析
高性能的性價比光學薄膜量測儀 -
崁入式膜厚量測儀
能觀測半導體成膜過程的all-in-one型膜厚儀。
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膜厚光譜分析儀系統MCPD series
耐彎曲的光纖搭配多樣化的選配套件，可靈活的架設於各種環境、提供客戶“最滿意的光學檢測系統”
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分光干涉式wafer晶圓測厚儀SF-3
即時檢測WAFER基板於研磨製程中的膜厚
Load Port嵌入式專用檢出器 -
光波動場3D顯微鏡 MINUK
【高速2秒測量⚡】奈米級非接觸3D量測 ⭕無需逐層對焦・自由觀察任意深度⭕
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相位差檢測設備RETS-100nx
高機能光學薄膜及CELL GAP量測
並具多功能性和高精度的相位差量測設備 -
低相位差高速檢測設備RE-200
可對應In Line以及Off Line的高速偏光量測需求。
同時量測低相位差與光學軸的時間不到0.1秒。 -
LineScan桌上膜厚檢測系統
採用Line Scan方式。桌上Type
實現高速且高精度的全面性光學膜檢測 -
LineScan線上膜厚檢測系統
採用Line Scan線掃描方式，實現高速且高精度的全面性光學膜檢測
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LineScan wafer檢測系統
採用單軸Linesacn掃描進行全表面測量，實現無遺漏的晶圓量測
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量子點對應彩色濾光片色度檢查 顯微分光測定裝置 TLCF 200QD
本製品為可對應量子點的彩色濾光片在RGB發光狀態下之色度評價裝置
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彩色濾光片色度檢查 小型高精細顯微分光測定裝置 TLCF-110-SF
桌上型彩色濾光片檢測設備LCF6000進化
對應微小畫素Spot size φ2um -
FPD平面顯示器光譜分析設備MD series
全自動檢查FPD模組的顯示性能及LCD背光模組點燈測試.檢測器除使用本公司所提供之高感度分光放射輝度計以外，亦可搭配其它品牌之輝度計.
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液晶層間隙檢測設備RETS series
全方位對應所有光學材料之位相差檢測需求
已注入液晶的液晶層間隙（穿透型、反射型） -
Inline線上即時檢測(彩色濾光片製程)
可架設於彩色濾光片前段製程中、進行色度，膜厚，OD，反射率的線上即時檢測
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動態畫面反應時間檢測儀MPRT-2000
藉由模擬人類眼球移動方式進行各種顯示器之高精度量測可更貼近於人類的真實視覺。
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顯示器面板&模組檢測設備LCD series
主要針對小型~大型LCD面板在-35度~90度的環境下進行光學電氣特性量測評價
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量子效率量測系統QE-2100
藉由絕對量子效率量測內部量子效率、外部量子效率
可量測粉體、固體、液體、薄膜樣品量子效率 -
LED 高速光譜分析儀LE-5400
LED光學特性高速評價
可配合生產線，或裝置中的點燈訊號同步高速測量 -
配光量測系統GP series
光度分佈角度量測・配光特性評價
符合標準的量測。配光分布數據與色度可同時量測 -
光通量量測系統(積分球/積分半球)FM/HM series
發光功率評價所不可欠缺的光通量量測
HM series(半球) 與FM series (全球) -
micro LED光度量測系統 AL-1000
對應CIE-127 condition B(100mm)量測條件
搭配探針式電極最低亮度1ucd值量測(WD=20mm)
內建CCD, 量測點位採雷射對位
量測範圍
A. 光度(cd)測定範囲 : 1[ucd]-500[cd]
B. 最小光度測定範囲 : 1ucd@WD20mm，5ucd@WD100mm，100ucd@500mm*1
C. 最大発光面的直径 : 100mm
D. 量測距離 : 20，100，500mm -
微小化反射率量測設備及LED導線架
投光SPOT 0.2mm, 無須調整焦距
45度入射45度出射, 搭配積分球可量測全光束 & 擴散反射率
搭配多通道分光光譜儀 MCPD9800可依照需求更換量測波長範圍
配有CCD可以做量測點位確認 -
Standalone型晶圓厚度量測&產線上膜厚量測設備TE series
本設備配合半導體 Wafer CMP等製程中， OFF-Line wafer 薄膜/厚度量測用途
設備中包含 wafer Loadport、EFEM 、In-situ Metrology Unit。 -
晶圓厚度&線上膜厚量測設備GS-300 series
無須搬送one through、降低Wafer的汚染與高效率的Wafer量測提案可裝載安裝於連接埠區域上
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Qsep Ultra
排除傳統電泳中的人為誤差，操作簡單，只需兩步驟：前處理與解析。
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量子點光阻EQE量測儀 TQ-10
用於量子點光阻材料之EQE 量測。
TQ-10型是一款輕巧、且易於使用的小型量測儀器。
