線上免費研討會

【掌握前沿光學膜厚量測技術 : 認識光干涉的原理與應用】

膜厚研討會
 
我們將介紹最新的光學膜厚量測技術,包括光干涉的原理與應用。在本次研討會中我們為您簡介如何使用光學量測儀器量測薄膜的厚度,精確掌握產品的品質控制與生產效率。我們將與您分享最佳的實踐方法與技巧。
【場次1】2023/06/28 15:00~16:00
【場次2】2023/07/05 14:00~15:00

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【固體表面電位解密:板狀、薄膜狀樣品表面電位量測方法與範例介紹】

固體表面電位研討會 (1)

 
固體表面電位是大塚電子ELSZ特色的量測項目,主要使用電氣泳動法配合電滲流解析做量測。
其不僅可以解析固體本身的電位,也可以進一步置換液相容液觀察固體與液體相間的交互作用。
利用電荷的吸引或斥力,可以延伸出許多研究方向。
【場次1】2023/08/17 14:00~15:00

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RE-200

低相位差高速檢測設備RE-200

RE-200是人造光子晶體(偏光素子)與CCD感光元件所構成的偏光檢測儀、搭配帶有穿透率特性的各種偏光元件、可以同時進行相位差與光學軸的高速量測。
CCD感光元件會自動擷取經過偏光後所呈現的畫面進行解析。相較以往、不需要再使用任何的驅動元件來尋找偏光後的受光強度。不但可提高再現性的精度、更具備長時間使用的安定性。

量測項目

  • 方位角
  • 相位差
  • 3次元屈折率
  • 橢圓率

產品資訊

產品特色
⦿可測量從0nm開始的低相位差(殘留應力)
⦿檢測光學軸的同時,同步高速測量相位差(Re.)(0.1秒以下的高速同時量測)
⦿偏光檢測儀無任何驅動元件干擾,可提高再現性量測精度
⦿無需複雜參數設定,操作簡單易懂
⦿550nm以外,亦可支援其它波長量測
⦿Rth量測、全角度量測需搭配自動旋轉傾斜裝置(僅對應Off Line)
⦿搭配拉力測試機可同時量測薄膜偏光特性與光彈性(特殊規格)
 
Off Line用途(離線檢測)
⦿相位差膜、偏光膜、橢圓膜、視野角改善膜、各種機能性薄膜
⦿樹脂、玻璃等透明帶有低相位差之樣品(殘留應力)
 
Off Line用途(選配部品)
⦿Rth量測、全角度量測需搭配自動旋轉傾斜裝置 (僅對應Off Line)
RE-200 InLine OffLine figまとめT2 900x286
 
In Line用途(線上即時檢測)
⦿最適用於生產線中的即時監控可搭配複數偏光檢測儀。同時進行多點位、多角度(Rth)量測
⦿最短0.05秒(20Hz)的高速節拍時間
⦿輕巧設計、省設置空間
⦿實現高可靠性、高重複性
RE-200 InLine figまとめ 900x289 
 

規格樣式

  RE-200
樣品尺寸 最小10 × 10mm ~ 最大100 × 100mm
量測波長 550nm(標準規格)※1
相位差量測範圍 約0nm ~ 約10μm
相位差量測精度 0.05nm(3σ)※2
光學軸量測精度 0.05°(3σ)※2
解析元件 偏光子Array
量測口徑 2.2mm × 2.2mm
量測光源種類 100W鹵素燈 或 LED光源
尺寸 300(W) × 560(H) ×430(D) mm
重量 約20kg
※1可選擇其他波長
※2量測水晶波長板之精度(約550nm,2枚型)

量測原理 & 量測範例

量測原理
■RE-200主要是採用光結晶像素與CCD感光元件所構成的偏光檢測系統。
 搭配帶有穿透率特性的偏光元件,可高速進行相位差與光學軸的量測。
 RE-200光學配置

■量測模組內的CCD感光元件會自動擷取經過偏光後所呈現的畫面進行解析。
 相較以往傳統偏光系統,不需要再使用任何的驅動元件來尋找偏光後的受光強度。
 除了可提高再現性的精度、更具備長時間量測的安定性。
 RE-200量測畫面

量測範例
 RE-200量測範例


 

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