線上免費研討會

【掌握前沿光學膜厚量測技術 : 認識光干涉的原理與應用】

膜厚研討會
 
我們將介紹最新的光學膜厚量測技術,包括光干涉的原理與應用。在本次研討會中我們為您簡介如何使用光學量測儀器量測薄膜的厚度,精確掌握產品的品質控制與生產效率。我們將與您分享最佳的實踐方法與技巧。
【場次1】2023/06/28 15:00~16:00
【場次2】2023/07/05 14:00~15:00

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【固體表面電位解密:板狀、薄膜狀樣品表面電位量測方法與範例介紹】

固體表面電位研討會 (1)

 
固體表面電位是大塚電子ELSZ特色的量測項目,主要使用電氣泳動法配合電滲流解析做量測。
其不僅可以解析固體本身的電位,也可以進一步置換液相容液觀察固體與液體相間的交互作用。
利用電荷的吸引或斥力,可以延伸出許多研究方向。
【場次1】2023/08/17 14:00~15:00

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  • 1.膜厚量測會破壞樣品嗎?+

    大塚使用光學式膜厚儀,以非接觸方式量測光學係數,進而計算膜厚。故量測並不會接觸到樣品表面,也不會造成破壞喔。
  • 2.橢圓偏光儀為什麼不能量測玻璃樣品呢?+

    一般熟知的橢偏儀雖可量到1奈米以下厚度,但由於量測點位大且有角度變換時,透明的玻璃基板之背面反射會進到光學系統中,影響到膜厚量測準確度;故橢偏儀大多量測不透明基材。
    OPTM顯微分光膜厚計擁有特殊專利,可量測到1奈米厚度,且不會受玻璃基板背面反射影響!
  • 3.膜厚量測時間需要多久呢?+

    OPTM顯微分光膜厚計量測一點2秒以內可完成,一片wafer量測面內49點僅需要95秒鐘。
    SF-3分光干涉式wafer膜厚計更是在數ms內即可量測完成,對應線上動態量測更是輕鬆達成。
  • 4.多層膜樣品可以量測膜厚嗎?+

    在同一個厚度等級下,多層膜是可以量測的。例如100nm、200nm、500nm三層可同時量測各層膜厚度。
    其中各層材料的折射率需有差異,否則是沒辦法辨別的(例如三層都是SiO2,折射率相同就只能測到總厚)。
    詳細情況請與業務討論,或是聯絡我們。
  • 5.為什麼Si wafer不透明卻可以量膜厚?+

    大塚使用的膜厚計皆為光學非接觸式,一般可量測透明材料膜厚。
    但Si wafer不透明卻可被量測是因為選用了紅外線作為光源,Si的特性在紅外光範圍是可被透過的,因此使用紅外光作為膜厚量測,即可量到wafer的厚度。

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