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  【界達電位粒徑分析量測原理及最新應用】

WEBINAR (1920 × 755 公釐) (1)


 
不論是粒徑還是界達電位都是幫助我們觀察樣品分散效果的重要指標，我們歡迎所有對分散性量測技術有興趣的人參與，我們期待與您分享最新的技術發展與實踐經驗，並一同探討光散射量測技術的未來發展方向。
【場次1】2023/11/09 14:00~15:00

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【半導體製程中的膜厚量測技術和挑戰】


半導體製程中的膜厚 量測技術和挑戰 (1920 × 755 公釐)
 
半導體製程的膜厚度是確保製程品質和性能的關鍵因素之一，而準確測量薄膜的厚度則尤為重要。
在這個研討會中，我們將深入探討先進的膜厚量測技術，並討論在實際製程中面臨的挑戰。採用最佳實踐，並掌握未來的發展趨勢。
【場次1】2023/11/29 14:00~15:00
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擁有業界標竿水準的量測穩定性，可提供高度信賴性的優異光學量測設備(亦可搭配各式先進生產線進行客製化設計)
相關技術應用可參考📖 技術文章-光譜儀📖 
也可以直接洽詢我們📞洽詢光譜儀相關設備📧
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