研討會活動

【先端材料精準解析:全方位粒徑分析先進技術與應用】
動態光散射、電氣泳動光散射、 顆粒計數、影像處理、液態SEM技術分析

大塚研討會視覺_第三版

【新竹場】2023/05/31(三) 13:00~16:30
【高雄場】2023/06/01(四) 08:30~12:00
超過半世紀粒徑分析開發經驗的大塚電子株式會社的日本量測技術負責人分享最新的應用與先進技術,以及有工研院背景的新銳公司邑流微測分享影像技術、液態SEM、線上解決方案等先端應用。另外,特別邀請兩位國內學界教授,於生物科技、材料領域中的經驗分享。本次研討會包含動態光散射、影像處理、SEM等多種粒徑分析技術,希望能為大家提供更多元的產學界的學術交流與產業應用。
活動免費參加,名額有限,請盡早報名。

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線上免費研討會

【掌握前沿光學膜厚量測技術 : 認識光干涉的原理與應用】

膜厚研討會
 
我們將介紹最新的光學膜厚量測技術,包括光干涉的原理與應用。在本次研討會中我們為您簡介如何使用光學量測儀器量測薄膜的厚度,精確掌握產品的品質控制與生產效率。我們將與您分享最佳的實踐方法與技巧。
【場次1】2023/06/28 15:00~16:00
【場次2】2023/07/05 14:00~15:00

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Linescan

LineScan線上膜厚檢測系統

線上全膜全幅寬檢查裝置。
◎獨自開發的光干涉法與高精度膜厚演算處理技術,最短量測時間間隔0.01秒
◎採用Linescan全幅寬掃描的線上膜厚檢測系統
◎軟硬體獨自開發光學系統
◎高精度全幅掃描(獨家專利)
◎高速量測全膜面內分布(最短0.01sec)
◎1台使用時對應幅寬為50cm(最大可對應10M幅寬)

量測項目

  • 膜厚

產品資訊

無遺漏的全面線上膜厚檢查

◎採用Line Scan方式,實現無"遺漏"的全面Film檢查
 以往的自動量測方式,於薄膜製程的膜厚是點的量測,無法做全面檢查。不符合標準的周圍部分全部切除廢棄,提升良率及生產效率是需要克服的課題。
LineScan方式 点-線 T4 W800

◎膜厚量測專業製造商才能提供的完善厚量測系統
 LineScan方式的膜厚計,採用獨自開發的光干涉法的組合高速、高精度膜厚演算技術,實現最短0.01秒間隔,500mm幅寬(使用1台時)的全面膜厚量測。 
 寬幅度的薄膜也可裝置多台檢出器得到相同的結果。
LineScan 測定から結果流れ 測定 W1280

◎LineScan方式的檢查方式,可達成全幅、全長的量測,精準判斷在膜厚基準外的部分。
 不易受到薄膜的分布及皺褶影響,期待貢獻在各個領域上薄膜品的品質管理上更加精進。
LineScan ムラ

◎可在桌上輕鬆檢查面內膜厚不均 (Off Line type)
LineScan OffLine type role to role SQ 685x685
 

LineScan線上膜厚檢測系統軟體畫面

⦿薄膜的厚度 (全幅、全長量測)​​​​​
LineScan  測定結果画面 ヌキ W800
 

LineScan線上膜厚檢測系統量測對象

⦿光學薄膜、膠粘膜、包裝薄膜、導電薄膜
Film アッセンブリー 製品 fig icon W800


 

LineScan線上膜厚檢測系統介紹影片

提升薄膜品質良率,邀請您試看看「LineScan膜厚計」! 

以往的自動量測方式,於薄膜製程的膜厚是點的量測,無法做全面檢查。不符合標準的周圍部分全部切除廢棄,提升良率及生產效率是需要克服的課題。

大塚電子開發的LineScan膜厚計,採用獨自開發的光干涉法的組合高速、高精度膜厚演算技術,實現最短0.01秒間隔,500mm幅寬(使用1台時)的全面膜厚量測。 

藉由薄膜全面LineScan檢查方式,可達成全幅、全長的量測,精準判斷在膜厚基準外的部分。

此外,寬幅度的薄膜也可裝置多台檢出器得到相同的結果。並且,不易受到薄膜的分布及皺褶影響,期待貢獻在各個領域上薄膜品的品質管理上更加精進。 

 

規格樣式

  InLine樣式 OffLine樣式
膜厚範圍 0.7~300 μm
量測幅寬 500 mm~最大 10 m 250 mm
量測間隔 10 ms~
尺寸(W×D×H) 81×140×343 mm 459×609×927 mm
重量 4 kg(量測頭部分) 60 kg
電源 AC100 V±10% 125VA
 
InLine樣式
 一連検出器(TD: max.500mm)
  三連検出器(TD:max.1500mm)
OffLine樣式

量測範例


LineScan 測定から解析 W1280


 
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