FE-5000S

橢圓偏光量測儀FE-5000S

FE-5000S由於是採用2次CCD檢出器及獨創之光學系統,與以往所不同的是,目前採廣帶區域(300~800nm)之分光Ellipsometry,能簡單且高速高精度測量。
本系統之入射角度能自動SCAN(採用正弦桿自動驅動方式)及分析SCAN DATA、更能做高精度之分析。薄膜材料之多層薄膜之膜厚分析、折射率分析、薄膜界面、結晶混合等等,都能被分析。本系統之構成,可從研究單位到品質管理單位,因此,適用範圍極為廣泛。

量測項目

  • 多層膜解析
  • 絕對反射率分析
  • 光學常數nk值(n:折射率、k:消光係數)

產品資訊

特 長
◉nm薄膜之膜厚測量:以非接觸非破壞性測量多層膜厚
◉材料表面的光學係數(n,k)之測量:在膜厚管理、膜質管理上,提供實用之情報
 膜厚,光學係數(n:折射率,k:消衰係數), Ellipso Parameter(Tanψ及cosΔ)]
◉採用400ch以上的光譜橢圓法、能迅速地測量Spectrum Spectrum point數極多,能很正確的測量急峻變化之Ellipso Spectrum
◉由於反射角度為可變(正弦桿 (Sine Bar) 自動驅動方式),更能充份對應出高精度分析
◉可對應至客戶端依分析之材料物性和多層膜厚等之高度評價工程:
 依“有效媒質近似”(EMA),能測量複素折射率之波長分散値、混合結晶之混合比、界面之厚度等等
 依照各種光學係數函數和膜Model之分析,能充份對應薄膜界面等之材料物性評價工程
量測項目
橢圓參數量測(tanψ、cosΔ)
光學常數分析(n、k)
多層膜厚分析
橢圓偏光儀和顯微分光膜厚計OPTM的功能領域
FE5000 產品資訊 比較 W940


 

量測原理

橢圓偏光法

橢圓偏光法的基本原理是將光入射於物質,藉由物質之介電性質所造成的反射光偏振變化,以取得材料光學特性與表面覆膜之厚度。一般而言,光照射在物質時,入射光與反射光的偏振狀態不會相同。藉由此偏振狀態的差異,可測得反射表面的狀態。對入射光與反射光所形成的面,平行之光波振幅稱之為P偏振光,垂直之光波振幅稱之為S偏振光。
一般未帶有偏振特性的光,在通過45度傾斜的偏光片後,P與S偏振光的相位會相同,強度也會成為1:1的直線偏振光。這道直線偏振光在照射物質後所產生的反射光,會與照射前的P與S偏振光間產生相位差Δ。由於照射在物體表面的P與S偏振光的反射率相異,P與S偏振光的反射光強度亦不會相同。將P與S偏振光的相位差値代入△,反射振幅比為tanψ,可參考如下的公式與。
FE5000S原理 EQ and FIG W470
 

規格樣式

  FE-5000S
樣品對應尺寸 100*100mm
量測方式 偏光片元件旋轉方式
入射/反射角度範圍 45-90度
入射反射角度驅動方式 反射角度可自動變更
波長量測範圍 300-800nm
分光元件 Polu chrometer
尺寸 650(H)*400(D)*560(W)mm
重量 約50公斤
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