MCPD series

膜厚光譜分析儀系統MCPD series

以高速、高感度量測紫外光、可見光、近紅外光光譜為主的多通道分光光譜儀,搭配耐彎曲的光纖以及多樣化套件,可發揮極佳的靈活度,自由架設於各種環境。再加上本公司專業的分光檢測技術,提供給客戶“最滿意的光學檢測系統。

■系統構成範例
 膜厚量測(分光光譜儀 + 顯微鏡)
 影印機感光鼓膜厚度量測
 気水界面膜量測
 蒸餾膜量測
 多點膜厚量測

■應用範圍
 半導體晶圓膜(氧化膜、氮化膜、光阻膜)
 光阻剝離液厚度、濕狀薄膜
 塗布膜(色材膜、蒸鍍膜、接著劑、壓克力樹脂、光碟片膜層、薄膜磁頭)
 塑膠膜(PET、PP、PE、PC、Nylon)、機能性薄膜、包裝膜

量測項目

  • 膜厚
多通道分光光譜儀 MCPD series
以高速、高感度量測紫外光、可見光、近紅外光光譜為主的多通道分光光譜儀,搭配耐彎曲的光纖以及多樣化套件,可發揮極佳的靈活度,自由架設於各種環境。再加上本公司專業的分光檢測技術,提供給客戶“最滿意的光學檢測系統。繼高動態範圍分光光譜儀「MCPD-9800」後,再增加「MCPD-6800」,更進一步的擴大了應用領域。
 
MCPD series 性能&特長
■多款適用於各種應用領域的光譜儀
 MCPD 概論 9800vis6800 W800

■通訊模式可自由選擇USB或LAN
 通訊模式採用高便利性的USB以及遠端控制所需的LAN。可依照實際現場狀況,規劃出理想的工作環境。

■高速、高感度解析光譜
 MCPD 概論 PDA Fig W800

■耐彎曲光纖可搭配出各種的光學檢測架構
 耐彎曲光纖不受限於被測物的形狀或大小,可依照現場地形地物自由地架設出理想的光學系統。無論是搭配顯微鏡架設於大型移動平台、或是安裝於其他裝置內部,皆可發揮出色優異的性能。
 
MCPD series 經驗&技術
備有豐富的選配套件以及分析軟體。藉由累積的技術與專業知識、提供比客戶需求更進一步的“最佳方案”。
 MCPD 概論 PDA Fig option W1280
 
反射分光法
光干涉法搭配高速、高精度的自家光譜儀技術,提供非接觸、不破壞樣品的膜厚量測方案。在(圖2)的光學系統中,光譜儀解析量測光源照射在樣品後所得到的反射率,同時進行光學膜厚演算。在(圖1)中,以金屬基板上的膜層為量測對象,光源照射在膜層表面後被反射為 (R1)。光源透過膜層入射在金屬基板與膜層介面間的反射為 (R2)。R1與R2間因光程一長一短的延遲現象而産生相位差,而藉由解析此相位差所得到的反射光譜與屈折率,進而演算膜厚,即稱之為光干涉法。解析手法共有波峰-波谷法 (P-V),快速傅立葉轉換法 (FFT),非線性最小平方法 (Curve Fitting),最適化法 (Optimiztion) 等四種。
   膜厚原理 fig 反射分光法1
  解析手法所相對應的膜厚量測範圍 
    膜厚原理 fig 反射分光法2 w1280

■波峰-波谷法 (P-V):膜厚0.5μm以上
 膜厚原理 fig 反射分光法 31 波峰-波谷法 (P-V) W800

■快速傅立葉轉換法 (FFT):最適用於數1μm膜厚、多層膜
 膜厚原理 fig 反射分光法 32 快速傅立葉轉換法 (FFT)

■非線性最小平方法 (Curve Fitting):1μm以下膜厚、光學常數 (n , k) 解析
 膜厚原理 fig 反射分光法 4 非線性最小平方法 (Curve Fitting) H420

■最適化法(Optimiztion):最適用於生產線上 (In-line) 解析
 最適化法是利用自家之演算法技術所開發的膜厚解析手法。由於是藉由已測得之反射率波形與理論波形相比較,
 再進行膜厚演算,對不易測得正確反射率光譜的樣品,也可以進行解析並取得膜厚値。
 無論是在解析前所需要的原始値,或是在自動解析中,需要變更原始値才可以正確演算膜厚値時,最小平方法介面間的反射都非常的適用。
 
(參考)橢圓偏光法
 膜厚10nm以下的超薄膜、基板 (Bulk) 表面之n、k解析
 膜厚原理 fig エリプソ 5 w800


 
提供最適用的方案滿足各種需求(膜厚量測)
膜厚量測(分光光譜儀 + 顯微鏡)
 mcpd 膜厚図1 w1280
 
彎曲面狀膜厚度量測 蒸餾膜量測
  mcpd 膜厚図1彎曲 真空 T2  w1280   
多點膜厚量測
 mcpd 膜厚図 多分岐 w1280

 

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