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【關鍵突破:2024先進材料精準粒子分析研討會】


202405粒徑研討會1
 
本次研討會主題為「2024先進材料精準粒子分析研討會」,超過半世紀粒徑分析開發經驗的大塚電子株式會社的日本量測技術負責人分享最新的應用與量測上的knowhow,各種意想不到的界達電位、粒徑大小、表面電位等在各領域的關鍵突破。 此外,工研院背景的新銳公司邑流微測分享包括半導體及生醫製藥等熱門領域,聚焦在潔淨、智慧製造等關鍵字,引領ESG最新潮流。。
【新竹場】2024/05/21 13:00~
【台中場】2024/05/22 13:00~
【高雄場】2024/05/23 13:00~
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MCPD series

膜厚光譜分析儀系統MCPD series

以高速、高感度量測紫外光、可見光、近紅外光光譜為主的多通道分光光譜儀,搭配耐彎曲的光纖以及多樣化套件,可發揮極佳的靈活度,自由架設於各種環境。再加上本公司專業的分光檢測技術,提供給客戶“最滿意的光學檢測系統。

■系統構成範例
 膜厚量測(分光光譜儀 + 顯微鏡)
 影印機感光鼓膜厚度量測
 気水界面膜量測
 蒸餾膜量測
 多點膜厚量測

■應用範圍
 半導體晶圓膜(氧化膜、氮化膜、光阻膜)
 光阻剝離液厚度、濕狀薄膜
 塗布膜(色材膜、蒸鍍膜、接著劑、壓克力樹脂、光碟片膜層、薄膜磁頭)
 塑膠膜(PET、PP、PE、PC、Nylon)、機能性薄膜、包裝膜

量測項目

  • 膜厚

產品資訊

多通道分光光譜儀 MCPD series
以高速、高感度量測紫外光、可見光、近紅外光光譜為主的多通道分光光譜儀,搭配耐彎曲的光纖以及多樣化套件,可發揮極佳的靈活度,自由架設於各種環境。再加上本公司專業的分光檢測技術,提供給客戶“最滿意的光學檢測系統。繼高動態範圍分光光譜儀「MCPD-9800」後,再增加「MCPD-6800」,更進一步的擴大了應用領域。
 
MCPD series 性能&特長
■多款適用於各種應用領域的光譜儀
 MCPD 概論 9800vis6800 W800

■通訊模式可自由選擇USB或LAN
 通訊模式採用高便利性的USB以及遠端控制所需的LAN。可依照實際現場狀況,規劃出理想的工作環境。

■高速、高感度解析光譜
 MCPD 概論 PDA Fig W800

■耐彎曲光纖可搭配出各種的光學檢測架構
 耐彎曲光纖不受限於被測物的形狀或大小,可依照現場地形地物自由地架設出理想的光學系統。無論是搭配顯微鏡架設於大型移動平台、或是安裝於其他裝置內部,皆可發揮出色優異的性能。
 
MCPD series 經驗&技術
備有豐富的選配套件以及分析軟體。藉由累積的技術與專業知識、提供比客戶需求更進一步的“最佳方案”。
 MCPD 概論 PDA Fig option W1280
 

膜厚光譜分析

反射分光法
光干涉法搭配高速、高精度的自家光譜儀技術,提供非接觸、不破壞樣品的膜厚量測方案。在(圖2)的光學系統中,光譜儀解析量測光源照射在樣品後所得到的反射率,同時進行光學膜厚演算。在(圖1)中,以金屬基板上的膜層為量測對象,光源照射在膜層表面後被反射為 (R1)。光源透過膜層入射在金屬基板與膜層介面間的反射為 (R2)。R1與R2間因光程一長一短的延遲現象而産生相位差,而藉由解析此相位差所得到的反射光譜與屈折率,進而演算膜厚,即稱之為光干涉法。解析手法共有波峰-波谷法 (P-V),快速傅立葉轉換法 (FFT),非線性最小平方法 (Curve Fitting),最適化法 (Optimiztion) 等四種。
   膜厚原理 fig 反射分光法1
  解析手法所相對應的膜厚量測範圍 
    膜厚原理 fig 反射分光法2 w1280

■波峰-波谷法 (P-V):膜厚0.5μm以上
 膜厚原理 fig 反射分光法 31 波峰-波谷法 (P-V) W800

■快速傅立葉轉換法 (FFT):最適用於數1μm膜厚、多層膜
 膜厚原理 fig 反射分光法 32 快速傅立葉轉換法 (FFT)

■非線性最小平方法 (Curve Fitting):1μm以下膜厚、光學常數 (n , k) 解析
 膜厚原理 fig 反射分光法 4 非線性最小平方法 (Curve Fitting) H420

■最適化法(Optimiztion):最適用於生產線上 (In-line) 解析
 最適化法是利用自家之演算法技術所開發的膜厚解析手法。由於是藉由已測得之反射率波形與理論波形相比較,
 再進行膜厚演算,對不易測得正確反射率光譜的樣品,也可以進行解析並取得膜厚値。
 無論是在解析前所需要的原始値,或是在自動解析中,需要變更原始値才可以正確演算膜厚値時,最小平方法介面間的反射都非常的適用。
 
(參考)橢圓偏光法
 膜厚10nm以下的超薄膜、基板 (Bulk) 表面之n、k解析
 膜厚原理 fig エリプソ 5 w800


 

裝置構成

提供最適用的方案滿足各種需求(膜厚量測)
膜厚量測(分光光譜儀 + 顯微鏡)
 mcpd 膜厚図1 w1280
 
彎曲面狀膜厚度量測 蒸餾膜量測
  mcpd 膜厚図1彎曲 真空 T2  w1280   
多點膜厚量測
 mcpd 膜厚図 多分岐 w1280

 

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