FE-300

膜厚量測儀FE-300

◎薄膜到厚膜的量測範圍、UV~NIR光譜分析
◎高性能的低價光學薄膜量測儀
◎藉由絕對反射率光譜分析膜厚
◎無複雜設定,操作簡單,短時間內即可上手
◎線性最小平方法解析光學常數(n:折射率、k:消光係數)

量測項目

  • 多層膜解析
  • 光學定數(n:折射率、k:消光係數)
特色
從薄膜到厚膜高範圍的膜厚量測
使用反射光譜作為膜厚解析
一體型・低價格以非接触・非破壊的方式實現高精度量測
簡單的條件設定與測定操作!簡單上手的膜厚測定方式
波峰波谷法、傅立葉轉換FFT解析法、非線形最小二乗法(Fitting)、最適化法等多種類膜厚量測分析
非線形最小二乗法(Fitting)膜厚解析演算、光学定数解析(n:曲折率、k:消光係數)代入
 
量測項目
絶対反射率測定
膜厚解析(10層)
光学參數解析(n:曲折率、k:消光係數)
 
量測對象
機能性Film材、塑膠可透光製品
透明導電膜(ITO、銀Nanowire)、位相差Film材、偏光Film材、AR Film材、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、接着剤、粘着剤、保護Film材、HardCoat、耐指紋剤等
半導体
化合物半導体、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、 SOI、Sapphire等
表面処理
DLC coat、防鏽劑、防霧劑等
光学材料
Filter、AR coat等
FPD
LCD(CF、ITO、LC、PI)、OLED(有機膜、封止劑)等
其他
HDD、磁気Tape、建材等

反射分光法

光干涉法搭配高速、高精度的自家光譜儀技術,提供非接觸、不破壞樣品的膜厚量測方案。在(圖2)的光學系統中,光譜儀解析量測光源照射在樣品後所得到的反射率,同時進行光學膜厚演算。在(圖1)中,以金屬基板上的膜層為量測對象,光源照射在膜層表面後被反射為 (R1)。光源透過膜層入射在金屬基板與膜層介面間的反射為 (R2)。R1與R2間因光程一長一短的延遲現象而産生相位差,而藉由解析此相位差所得到的反射光譜與屈折率,進而演算膜厚,即稱之為光干涉法。解析手法共有波峰-波谷法 (P-V),快速傅立葉轉換法 (FFT),非線性最小平方法 (Curve Fitting),最適化法 (Optimiztion) 等四種。
型式 薄膜型 標準型
測定波長範圍 300-800nm 450-780nm
測定膜厚範圍
(SiO2換算)
3nm-35um 10nm-35um
量測光斑直徑 φ3mm  / φ1.2mm
對應樣品尺寸 φ200×5(H)mm
測定時間 0.1~10s以内
電源 AC100V±10% 300VA
尺寸&重量 280(W)×570(D)×350(H)mm、24kg
其他 標準反射片、Receipe編輯服務
晶圓和透明基板能對應2種類光學系

 
對話視窗方式可簡單的量測解析膜厚

FE-analyseFE-meas


 
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