線上免費研討會

【掌握前沿光學膜厚量測技術 : 認識光干涉的原理與應用】

膜厚研討會
 
我們將介紹最新的光學膜厚量測技術,包括光干涉的原理與應用。在本次研討會中我們為您簡介如何使用光學量測儀器量測薄膜的厚度,精確掌握產品的品質控制與生產效率。我們將與您分享最佳的實踐方法與技巧。
【場次1】2023/06/28 15:00~16:00
【場次2】2023/07/05 14:00~15:00

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【固體表面電位解密:板狀、薄膜狀樣品表面電位量測方法與範例介紹】

固體表面電位研討會 (1)

 
固體表面電位是大塚電子ELSZ特色的量測項目,主要使用電氣泳動法配合電滲流解析做量測。
其不僅可以解析固體本身的電位,也可以進一步置換液相容液觀察固體與液體相間的交互作用。
利用電荷的吸引或斥力,可以延伸出許多研究方向。
【場次1】2023/08/17 14:00~15:00

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SLS-6500HL

靜態光散射光度計SLS-6500HL

動態光散射法分析粒徑、量測粒徑分佈。靜態光散射法量測絕對分子量、分子旋轉半徑與第二維里係數
備有氦氖雷射(He-Ne Laser)、固態雷射、雙重雷射(Double Laser)等規格可提供選擇
採用浸液容器槽光學系統,可高精度量測散射微弱的奈米粒子
最大4096ch的相關器,具備高分子濃溶液的多模式分析能力
搭配選配附件中凝膠旋轉容器,可分析凝膠狀態樣品

量測項目

  • 平均粒徑・粒徑分佈
  • 分子量

規格樣式

  SLS6500HL
光源 He-Ne雷射 (10 mW )
檢出器 PMT光電子倍增管
樣品容器 21φ圓筒型樣品容器
溫度 5~90℃ (恆溫水循環裝置為選配)
角度範圍 5 ~ 160゜( 步進馬達自動驅動) 
角度精度 ±0.1°
電源 AC100V 300VA
大小 440(W)×700(D)×570(H) mm
重量 約50kg

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