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  界達電位粒徑分析量測原理及最新應用

WEBINAR (1920 × 755 公釐) (1)


 
不論是粒徑還是界達電位都是幫助我們觀察樣品分散效果的重要指標,我們歡迎所有對分散性量測技術有興趣的人參與,我們期待與您分享最新的技術發展與實踐經驗,並一同探討光散射量測技術的未來發展方向。
【場次1】2023/11/09 14:00~15:00

點我報名->>>


 

【半導體製程中的膜厚量測技術和挑戰】


半導體製程中的膜厚 量測技術和挑戰 (1920 × 755 公釐)
 
半導體製程的膜厚度是確保製程品質和性能的關鍵因素之一,而準確測量薄膜的厚度則尤為重要。
在這個研討會中,我們將深入探討先進的膜厚量測技術,並討論在實際製程中面臨的挑戰。採用最佳實踐,並掌握未來的發展趨勢。
【場次1】2023/11/29 14:00~15:00
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Solution

解決方案

  • 奈米材料・新機能材料

  • 精密陶瓷・色料工業

  • 高分子材料

  • 能源・環境工程

  • B
    精密陶瓷・色料工業
    不透光的粒徑樣品量測是大塚的特長。
    顏料等需要維持穩定的配方,維持長時間不團聚以及產品的特性(顯色、耐用度等等)。
    ELSZ系列搭配自動載台及業界最高輸出的半導體雷射,可以不進行稀釋直接量測,避免產品因稀釋後產生的誤差。
    在我們的銷售經驗中,多有使用他牌產品稀釋後進行量測,因而看不出差異進而無法分辨產品品質的情況產生。
    另外,獨家的固體表面電位量測也是觀察塗佈時一個重要參數。
對象 用途 相關機種
陶瓷材料 膜厚 OPTM
分散安定性 ELSZ
顏料、墨水、彩色光阻 膜厚 OPTM
分散安定性 ELSZ
塗布固體表面電位 ELSZ
technical article

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