依據歐盟施行的個人資料保護法，我們致力於保護您的個人資料並提供您對個人資料的掌握。 我們已更新並將定期更新我們的隱私權政策，以遵循該個人資料保護法。請您參照我們最新版的 隱私權聲明。
本網站使用cookies以提供更好的瀏覽體驗。如需了解更多關於本網站如何使用cookies 請按 這裏。
18Feb.2022
膜厚儀
【光學膜厚量測】捲對捲(roll to roll)高速線上膜厚監控
高分子捲膜製程膜厚監控 |
|---|
而在生產速度等於產值下，捲膜速度越快代表產量越高。
捲膜速度除了考驗生產機台本身以外，對光學式量測膜厚的穩定度也是一大考驗。
因為捲對捲通常都會有一定程度的震動，速度越快震動幅度越大，十分考驗膜厚儀的感度(曝光時間)以及穩定度。
下面實際呈現產線以極限速度(150m/min & 200m/min)捲對捲生產條件下，MCDP光譜儀對膜厚的監控數據。
捲膜狀態下膜厚量測條件 |
|---|
量測波長範圍: 400~760 nm
自動曝光時間: 6 msec
積算次數: 4次
光斑大小: 約 3 mm
工作距離: 約 10 mm
膜厚量測結果 |
|---|
我們可以先以靜止量測來觀察機台本身穩定度，標準差為0.0056μm，相對平均值而言大約為0.028%(萬分位)。 接著可以看到150m/min & 200m/min速度下捲膜時，厚度的變動。 高速運轉下量測之穩定性較差，但膜厚數值差異不大。
若有想進一步了解的地方，歡迎隨時與我們聯繫。
相關產品
其他相關訊息
-
06.Dec.2022CMP是什麼意思？製程深入介紹，清楚瞭解技術與原理！
-
01.Aug.2022【薄膜厚度量測】『顯微分光法』與『橢圓偏光法』有什麼不同?
-
25.Mar.2025半導體薄膜製程是什麼？6大技術提升良率，專業應用優勢多！