線上免費研討會

【掌握前沿光學膜厚量測技術 : 認識光干涉的原理與應用】

膜厚研討會
 
我們將介紹最新的光學膜厚量測技術,包括光干涉的原理與應用。在本次研討會中我們為您簡介如何使用光學量測儀器量測薄膜的厚度,精確掌握產品的品質控制與生產效率。我們將與您分享最佳的實踐方法與技巧。
【場次1】2023/06/28 15:00~16:00
【場次2】2023/07/05 14:00~15:00

點我報名->>>

 

【固體表面電位解密:板狀、薄膜狀樣品表面電位量測方法與範例介紹】

固體表面電位研討會 (1)

 
固體表面電位是大塚電子ELSZ特色的量測項目,主要使用電氣泳動法配合電滲流解析做量測。
其不僅可以解析固體本身的電位,也可以進一步置換液相容液觀察固體與液體相間的交互作用。
利用電荷的吸引或斥力,可以延伸出許多研究方向。
【場次1】2023/08/17 14:00~15:00

點我報名->>>


 
18Feb.2022
膜厚儀

【光學膜厚量測】捲對捲(roll to roll)高速線上膜厚監控

高分子捲膜製程膜厚監控

在各種高分子領域中,捲對捲的膜層塗布是其中一段生產過程,在監控膜厚時為了保持商品的完整性,無法以接觸式方法量測。
而在生產速度等於產值下,捲膜速度越快代表產量越高。
捲膜速度除了考驗生產機台本身以外,對光學式量測膜厚的穩定度也是一大考驗。
因為捲對捲通常都會有一定程度的震動,速度越快震動幅度越大,十分考驗膜厚儀的感度(曝光時間)以及穩定度。  
下面實際呈現產線以極限速度(150m/min & 200m/min)捲對捲生產條件下,MCDP光譜儀對膜厚的監控數據。
 

捲膜狀態下膜厚量測條件

量測項目: 反射率、膜厚
量測波長範圍: 400~760 nm
自動曝光時間: 6 msec
積算次數: 4次
光斑大小: 約 3 mm
工作距離: 約 10 mm
 

膜厚量測結果

捲對捲2

我們可以先以靜止量測來觀察機台本身穩定度,標準差為0.0056μm,相對平均值而言大約為0.028%(萬分位)。 接著可以看到150m/min & 200m/min速度下捲膜時,厚度的變動。 高速運轉下量測之穩定性較差,但膜厚數值差異不大。

若有想進一步了解的地方,歡迎隨時與我們聯繫。  

您目前為透過後台登入模式

商品搜尋

偵測到您已關閉Cookie,為提供最佳體驗,建議您使用Cookie瀏覽本網站以便使用本站各項功能

依據歐盟施行的個人資料保護法,我們致力於保護您的個人資料並提供您對個人資料的掌握。 我們已更新並將定期更新我們的隱私權政策,以遵循該個人資料保護法。請您參照我們最新版的 隱私權聲明
本網站使用cookies以提供更好的瀏覽體驗。如需了解更多關於本網站如何使用cookies 請按 這裏