04Mar.2026
粒徑界達電位
背向散射DLS如何進行高濃度粒徑分析?原液粒徑量測4大案例分享!
這時,背向散射DLS就成了解方!它可以直接針對原液進行粒徑量測,特別適合用於如油墨、碳材、彩色光阻等高濃度、異色系的複雜樣品。想知道怎麼透過背向散射DLS有效完成高濃度粒徑分析?有哪些操作細節不能忽略?那就一起看下去吧!
高濃度樣品為何需稀釋才能進行粒徑分析?
在膠體與材料科學領域中,粒徑分布往往是決定產品穩定性、顯色力與加工性能的核心指標。然而,許多研發人員在面對油墨、碳材或半導體漿料時,常會遇到一個共同的瓶頸:「為什麼樣品一稀釋,量出來的數據就跟原液表現完全對不起來?」
這種情況其實不一定是量測誤差,而是來自傳統粒徑量測技術的先天限制。
也正因如此,「原液量測」才成為掌握產品真實狀態的重點。接下來,將替大家說明為什麼高濃度樣品在分析上特別困難,以及大塚科技如何透過背向散射DLS技術,突破這些限制。
傳統DLS的軟肋:為什麼「稀釋」反而可能誤導你的研發方向?
傳統的動態光散射(DLS)與雷射繞射技術,大多建立在「單一散射」理論上。也就是說,雷射光必須順利穿透樣品,並且光子在到達偵測器前,只與顆粒發生一次散射行為,才能進行正確的粒徑計算。
當樣品屬於高濃度、深色或不透光系統(例如:黑色碳材、彩色光阻)時,雷射光難以穿透,實務上往往只能透過高倍稀釋(100倍甚至1,000倍)來勉強量測。但這樣的做法,往往會帶來3大隱憂:
- 改變化學平衡:稀釋會改變溶劑的離子強度與表面活性劑濃度,導致原本處於絮凝狀態的顆粒解聚,量到的數據比真實情況更小。
- 掩蓋不穩定性:許多沉降或團聚現象僅在高濃度下發生,稀釋後樣品變得穩定,導致開發者錯失關鍵的品質警訊。
- 多重散射干擾:若不稀釋,高濃度樣品會產生「多重散射」(Multiple Scattering),光子在顆粒間多次反彈,導致計算出的粒徑偏離事實。
背向散射DLS是什麼?如何提升粒徑量測的解析力?
為了解決高濃度、不透光樣品難以準確量測的問題,背向散射(Backscattering)技術應運而生。其重點在於將偵測角度設置在接近反射的角度(160°到180°),避開樣品深處的多重散射干擾,讓DLS在原液狀態下也能穩定執行粒徑分析與粒徑量測。
✅減少多重散射干擾
背向散射DLS偵測的光訊號,主要來自樣品池表層的粒子,光子穿透深度極淺,極大地降低了多次碰撞(即「多重散射」)的可能性。這樣的機制讓系統能準確地分析高濃度、深色甚至不透光的原液樣品,不需稀釋也能得到可信的粒徑結果。值得一提的是,大塚電子在2000年時率先將背向散射導入DLS量測機台,並成功量產商業化。
✅補充多角度量測的優勢與侷限(前方、90度、背向)

多角度量測指的是透過不同偵測角度(如前向、90度與背向散射),取得樣品在不同尺度上的粒徑資訊,進而提升粒徑分析的解析力。特定粒徑範圍對特定角度有極高靈敏度,當單一角度無法清楚區分多重粒徑分布(如雙峰粒徑樣品)時,透過多角度資料整合,往往能成功拆解出原本隱藏的顆粒結構。不過,這樣的優勢仍有其限制:
- 光學穿透性為前提:前向與90度角度的偵測需依賴光能穿透樣品,故僅適用於透光樣品。當樣品為不透光或高濃度時,只能進行背向散射偵測。
- 數據擬合需謹慎:若將三個角度所得的資料擬合成單一結果,在不適合的樣品條件下反而可能造成數據失真、誤差放大,降低整體可信度。
原液粒徑量測案例分享
背向散射DLS技術在多種高濃度原液樣品的實務應用中,展現了難以取代的價值。這邊整理出4個產業關鍵案例,帶你了解在不同材料系統中,原液粒徑量測如何協助研發與品管精準掌握顆粒變化、避免關鍵缺陷發生。
1. 半導體CMP漿料:抓出「刮傷晶圓」的元兇
- 產業痛點:CMP漿料(研磨液)顆粒極細,但只要存在一點點的「大型團聚顆粒」,就會在拋光過程中造成晶圓表面刮傷。
- 原液量測的價值:稀釋後,原本微弱的團聚訊號往往會被背景值掩蓋。透過背向散射技術,我們能直接在原液中靈敏地捕捉到分布曲線末端的微小變化,在量產前就篩選出不合格的批次。
2. 電子級彩色光阻與噴墨:解決「噴頭堵塞」與「色偏」
- 產業痛點:彩色光阻含有高濃度的顏料,稀釋後量測的粒徑可能看似正常,但實際上在原液狀態下,顏料顆粒可能因交互作用(Inter-particle interaction)而產生結構性聚集。
- 原液量測的價值:背向散射能模擬樣品在塗佈、噴墨時的真實稠度。研發人員可以藉此觀察不同分散劑對「原液穩定性」的影響,確保產品長時間靜置後不會產生沈澱或顆粒感,延長噴頭壽命。
3. 電池材料(碳材/導電漿料):掌握「導電網路」的品質
- 產業痛點:碳奈米管(CNT)或石墨烯漿料是深黑、完全不透光的。傳統DLS根本無法測量。
- 原液量測的價值:透過縮短光程的背向散射技術,即便是黑如墨水般的漿料,也能直接進行上樣。這能幫助製程工程師判斷是否過頭(導致斷鍊)或不足(導致團聚),精準控制導電網路的成型。
4. 陶瓷與高分子乳膠:預防「剪切增稠」與「凝膠化」
- 產業痛點:高濃度懸浮液在泵浦輸送時,若粒徑分布不均,容易發生流變性質改變導致設備損壞。
- 原液量測的價值:能在不破壞樣品原始環境的情況下,進行動態光散射訊號的量測。透過分析互相關函數(Correlation Function)的衰減趨勢,可以預測漿料在儲存過程中的穩定性趨勢,避免整桶藥水凝膠化而作廢。
高濃度粒徑分析步驟與報告解讀重點有哪些?
想讓高濃度樣品的粒徑分析更精準穩定,不只靠設備本身,操作過程中的每一個小細節也至關重要。以下是針對原液粒徑量測時的建議步驟與報告解讀重點,協助你在高濃度條件下取得可靠數據:
- Cell(樣品槽)選擇:針對極高濃度或高黏度樣品,建議使用拋棄式樣品池,降低清洗難度。但若是以有機溶劑為主,則還是建議以玻璃/石英樣品池,避免樣品溶劑與樣品池材料產生反應。
- 量測位置掃描(Positioning):大塚的DLS可調整雷射聚焦位置。對於超高濃度,應將焦點移至樣品池邊緣(靠近入射光側),以最小化光程。在針對不同濃度、不同顏色的樣品,大塚的DLS在量測前都會進行聚焦掃描,確保每次量測都是在最佳位置。
- 稀釋方法:若樣品黏度過高影響布朗運動,建議採取以維持等比例添加劑的分散媒稀釋,而非盲目使用純溶劑稀釋。
- 「最小稀釋」策略:若黏度來源是添加劑無法避免的話,也可以做不同稀釋比例下的粒徑表現研究。
- 報告解讀:觀察PDI(多分散指數)。若PDI過高,代表樣品分布極不均勻,此時背向散射提供的強度分布(Intensity Distribution)比數量分布更具參考價值。
- 高濃度下的界達電位量測
背向散射DLS儀器推薦|大塚科技高濃度粒徑量測設備
在研發與品管現場,當你面對高濃度、深色或不透光樣品時,傳統DLS顯然已無法應對。
大塚科技針對不同使用場景與樣品性質,推出整合背向散射DLS技術的專業儀器方案,協助您在原液粒徑量測中掌握關鍵微粒資訊、突破稀釋帶來的誤差風險。
👉奈米粒徑分析儀ELSZ-neo:全能型研發首選
ELSZ-neo是大塚科技最具代表性的高階研發用奈米粒徑分析儀,專為處理極具挑戰性的膠體與分散系統設計:- 多角度自動優化:具備前方、側方(90度)及背向散射(165度)偵測位點,系統可依樣品濃度,自動切換至最佳量測角度。
- 高濃度原液量測:透過背向散射光程極短的特性,可量測濃度高達40%的樣品,並有效抑制深色樣品(如:碳黑、顏料)的多重散射。
- Zeta電位整合:可在同一台機器完成粒徑與Zeta電位分析,深入探討高濃度下的顆粒帶電性與分散穩定性。

👉奈米粒徑分析儀nanoSAQLA:高效率品管利器
若你重視快速、大量且一致的樣品篩選,nanoSAQLA是專為品管與量產而設計的高通量儀器:- 搭載背向散射光學系統:同樣具備背向散射技術,確保在不稀釋或微稀釋的情況下,依然能獲得與原液狀態高度相關的精準數據。
- 極致的「省時」與「自動化」:內建自動進樣與清洗系統,支援多孔位連續量測,大幅降低人為操作誤差並提升檢測通量。
- 直覺式操作介面:專為現場品管優化,即使是非技術背景的操作員,也能透過簡易流程快速判別樣品是否符合規格。
如何選擇適合你的設備?
| 需求特性 | 建議型號 | 核心優勢 |
|---|---|---|
| 深度研發/複雜樣品 | ELSZ-neo | 多角度補償、Zeta電位分析、極致濃度範圍 |
| 高通量篩選/生產品管 | nanoSAQLA | 自動化程度高、操作簡便、快速產出一致性報告 |
如同上文提到的油墨實測案例,樣品A與B的真實差異,只有在原液狀態下透過背向散射技術才能被精準檢出。若僅依賴傳統DLS進行稀釋後量測,這些關鍵訊號很可能就此被忽略,錯失改善良率的機會。選擇大塚科技,不僅是選擇一台儀器,而是選擇以真實數據為基礎的產品決策依據,讓品質管理更具說服力,研發流程也更加前瞻!
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