線上免費活動

  界達電位粒徑分析量測原理及最新應用

WEBINAR (1920 × 755 公釐) (1)


 
不論是粒徑還是界達電位都是幫助我們觀察樣品分散效果的重要指標,我們歡迎所有對分散性量測技術有興趣的人參與,我們期待與您分享最新的技術發展與實踐經驗,並一同探討光散射量測技術的未來發展方向。
【場次1】2023/11/09 14:00~15:00

點我報名->>>


 

【半導體製程中的膜厚量測技術和挑戰】


半導體製程中的膜厚 量測技術和挑戰 (1920 × 755 公釐)
 
半導體製程的膜厚度是確保製程品質和性能的關鍵因素之一,而準確測量薄膜的厚度則尤為重要。
在這個研討會中,我們將深入探討先進的膜厚量測技術,並討論在實際製程中面臨的挑戰。採用最佳實踐,並掌握未來的發展趨勢。
【場次1】2023/11/29 14:00~15:00
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21Aug.2023
活動訊息

20230908半導體先進檢測與計量國際論壇

最新活動消息

伴隨2023SEMICON Taiwan 國際半導體展舉辦,大塚電子參加9/8於南港展覽館舉辦-半導體先進檢測與計量國際論壇,包含最新量測技術分享。
演講主題 Applications in Semiconductor Manufacturing Process
       *Semiconductor Advanced Inspection and Metrology Forum 
時間 2023年9月8日(五) 13:30~14:10
地點 南港展覽館㇐館5樓500會議室
參加費用 需購票
報名資訊 半導體先進檢測與計量國際論壇
講演內容 以新產品光波動場三次元顕微鏡 MINUK®為主軸,分享最新的膜厚量測及應用事例。

半導體先進檢測與計量國際論壇

2023-09-08 | 上午 8:30 - 下午 4:20

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