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【從奈米到微米:粒徑與形態分析的前沿技術與未來趨勢】


2025量測技術研討會_banner

 
本研討會主題為從奈米到微米:粒徑與形態分析的前沿技術與未來趨勢。聚焦於粒徑與形態分析技術的最新進展,涵蓋光散射、3D顯微、晶片電位與流體粒子影像分析等領域。透過業界專家的專題演講,探討從奈米尺度到微米尺度之量測應用,並解析未來技術發展趨勢,協助與會者掌握在材料、生醫與半導體等領域中的關鍵分析能力。
【時間】台南場 2025/06/17 PM13:30~
【時間】新竹場 2025/06/18 PM13:30~
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設備性能提升改造

如有改造需求,請將以下的情報準備好,並聯繫弊司工程師。
  • 設備型號
  • 設備序號
  • 改造需求
 
 
LCF系列可評估改造項目
(1)  投光軸微小化改造
(2)  Ball pin更換與調整
(3)  舊式CCD替代品改造
(4)  舊式軸控卡替代品改造
(5)  膜厚量測功能追加改造
(6)  舊式分光器汰換改造方案
(7)  PMT P- Slave通訊改造
(8)  Micro OD 對應改造 nLCF only
(9)  作業系統升級
(10)電腦汰換升級
(11)EDA上拋格式
 
 
 
Rets系列可評估改造項目
(1)  EMPTY CELL量測軟體追加
(2)  Cell gap透過率顯示功能追加
(3)  IPS Twist angle量測精度提升改造
(4)  TN及IPS之Twist angle和Rubbing angle補正功能追加
(5)  舊式軸控卡替代品改造
(6)  新增RTH量測功能
(7)  舊式分光器汰換改造方案
(8)  作業系統升級
(9)  電腦汰換升級
(10)EDA上拋格式
(11)TrendAnalysis 3 for RETS/aRETS
 
 
 
In Line系列可評估改造項目
(1) 色度量測功能追加
(2) 透過率量測功能追加
(3) 透明光阻膜厚量測功能追加
(4) RGB光阻膜厚量測功能追加
(5) OD量測功能追加
(6) 作業系統升級
(7) 電腦汰換升級
(8) EDA上拋格式
 

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