wafer表面電位

研磨後晶圓的洗淨,有時候會出現無法去除異物的情形。這時大多是因為異物是正電荷,而晶圓是帶負電荷相吸的原因而無法去除。此時可以藉由量測晶圓表面與異物(例如研磨粒子)兩者的界達電位來研究交互作用。

application-caseimg-smcd-002

量測範例

市售SiN、TEOS晶圓表面電位等電點量測
晶圓電位

 

您目前為透過後台登入模式

商品搜尋

偵測到您已關閉Cookie,為提供最佳體驗,建議您使用Cookie瀏覽本網站以便使用本站各項功能